Спецификације прецизне петоосне ЦНЦ полупроводничке вакуумске коморе

Спецификације прецизне петоосне ЦНЦ полупроводничке вакуумске коморе
Detalji:
Услуге: 5-ЦНЦ глодање и окретно глодање за монолитне вакуумске коморе и унутрашње компоненте.

Капацитет: кутије, сферне и цилиндричне коморе за машинску обраду до 1800 × 1500 × 800 мм.

Завршне обраде: Електрополирање до Ра 0,2 µм, глодање огледала, пескарење, пасивизација и тврда анодизација.

Спецификације: Толеранције димензија до ±0,005 мм са високо-прецизним О-жлебовима за О-прстенове и профилима ивица ЦФ ножа{3}}.

Контрола квалитета: Детекција цурења помоћу Пфеиффер-ове хелијумске масене спектрометрије, провере ОЕС спектралног материјала и оптичко профилисање.

Време испоруке: 15 дана испоруке за стандардне конструкције и 30-40 дана за потпуно обрађене УХВ коморе.

МОК: Минимална количина поруџбине почиње од 1 јединице за израду прототипа до обимних серија.

Цртежи: Директна обрада СТЕП, ИГС, Кс_Т, ДВГ и ПДФ 2Д/3Д ЦАД датотека.

Вредност-Додавање: термички стрес-ублажавање жарења, ултразвучно прање чисте собе и двоструко вакумско паковање.
Pošalji upit
Opis
Pošalji upit

Техничке спецификације вакуумске коморе за 5-осну ЦНЦ машинску обраду полупроводника

Монолитна брушена вакуумска кућишта пројектована за вакуумски интегритет без{0}}дефекта, ниско испуштање гасова и дугорочну-стабилност димензија.

Основне инжењерске карактеристике:

Брзина цурења хелијума Мања или једнака 1×10^-12 Па·м³/с са 100% извештаја о испитивању.

Аустенитни нерђајући челик 304/316Л и легуре алуминијума 6061-Т6.

Израда ултра високог вакуума коморе до 10^-9 Па.

Толеранција равности заптивне површине прирубнице одржава се унутар мање од или једнако 0,02 мм/м.

Дизајн полупроводничке коморе за закључавање са ослобађањем од напрезања.

15-дневни обрт прототипа за моделе за инжењерску евалуацију.

Зеисс ЦММ је потврдио високу прецизност полупроводничких делова за ЦНЦ машинску обраду.

 

PVD Deposition System Vacuum Chamber

 

Могућности глодања моноблока за полупроводничке вакуумске коморе

Уклањање структурних заварених спојева да би се постигла хелијум{0}}непропусна заптивка и супериоран механички интегритет у процесним коморама.

 

Ксиамен Дазао Мацхинери производи моноблок5-осне ЦНЦ машинске полупроводничке вакуумске коморедизајниран за системе високог вакуума (ХВ) и ултра{0}}високог вакуума (УХВ). Коришћењем више-окрета за окретање и 5-осних симултаних ЦНЦ центара за глодање, чврсте гредице од нерђајућег челика 304, 316Л и Ал6061-Т6 се претварају у прецизна вакуумска кућишта без структуралних завара.

 

Наше производне могућности подржавају ПВД коморе за таложење-у облику кутије, коморе за јеткање плазмом, модуле за закључавање оптерећења на плочице и сферне УХВ реакционе посуде. Елиминишући унутрашњу порозност, шупљине у материјалу и дефекте у зонама заваривања -захваћених топлотом, наши5-осна ЦНЦ машинска полупроводничка вакуумска коморапроцес обезбеђује стабилне границе заптивања, непрекидне унутрашње канале за хлађење и{0}}прирубнице без изобличења за глобалне произвођаче алата.

Vacuum Chamber Housing Parts For Semiconductor Equipment

 

Анализа кварова на терену и инжењерске корективне радње

Рецензије узрока у стварном-светском свету из инсталација полупроводничке опреме.

 

1: ПВД комора за таложење прирубница микро-исправљање цурења

 

· Основни узрок:Европски клијент за танкофилмску{0}}опрему доживео је стопу отказа од 30% током тестирања цурења хелијума на ПВД коморама од нерђајућег челика у облику-кутије које је машински обрадио стари продавац. Анализа квара је открила микроскопске трагове увлачења и одступање равности прирубнице преко 0,05 мм преко заптивне површине.

 

· Инжењерска акција:Увели смо глодање у огледалу коришћењем специјализоване геометрије чеоне{0}}глодалице праћене прецизним ручним преклапањем. Равност површине је доведена у мање од или једнако 0,02 мм/м, а храпавост је смањена на Ра 0,4 µм. Свакипрецизно обрађене компоненте од нерђајућег челикарун сада се подвргава тестирању масеног спектрометра са 100% хелијума пре отпреме, подижући стопе прихватања склопа на 100%.

 

2: Ублажавање испуштања гасова у сферним УХВ реакционим судовима

 

· Основни узрок:Истраживачки институт је известио да основни притисци падају на 10^-7 Па унутар сферичне ухв коморе са цф прирубницама направљеним од стандардног СС304. Високе стопе испуштања гасова услед контаминације унутрашње површине и заробљене влаге спречиле су пумпање до потребног нивоа од 10^-9 Па.

 

· Инжењерска акција:Променили смо спецификацију материјала на ниско{0}}угљенични СС316Л, интегрисали циклус вакуумског жарења од 900 степени и применили унутрашње електрополирање да смањимо храпавост површине на Ра мању или једнаку 0,2 µм. Након ултразвучног прања чисте собе и печења у вакууму, крајњи вакуум је достигао 10^-9 Па унутар спецификације.

 

3: Искривљење прирубнице коморе за закључавање оптерећења под притиском

 

· Основни узрок:Произвођач опреме за плочице је открио прогресивни губитак вакуума у ​​дизајну полупроводничке коморе за закључавање након шест месеци рада. Брзи циклуси од вентилације-у-вакумски притисак ослободили су заостало напрезање приликом обраде, савијајући прирубницу главних заптивних врата за 0,03 мм.

 

· Инжењерска акција:Увели смо двостепени процес смањења напона: грубо глодање → термичко жарење → полу-завршна обрада → секундарна термичка стабилизација → 5-завршно глодање са -микро-компензацијом путање алата. Врата са закључавањем оптерећења након модификације су показала искривљење мање од или једнако 0,01 мм након 10.000 циклуса притиска.

Custom Stainless Steel Vacuum Chamber

 

Технички диференцијатори за ултра{0}}производњу високог вакуума

Стандардизовани металуршки и токови тестирања који одвајају полупроводничке коморе{0}}од комерцијалних машинских радњи.

 

1. Градирано вакуумско заптивање и 100% провера цурења хелијума:

· Стандард високог вакуума (ХВ):Брзина цурења хелијума Мања или једнака 1×10^-10 Па·м³/с. Оптимизовано за ПВД системе, браве за оптерећење и модуле за пренос.

· Ултра{0}}стандард високог вакуума (УХВ):Брзина цурења хелијума Мања или једнака 1×10^-12 Па·м³/с. Формулисан за плазма јеткање и системе за анализу површине.

 

2. Протокол за контролу испуштања УХВ материјала:

· Следивост серије материјала са избором легуре ниског притиска паре (СС316Л, Ал6061-Т6).

· Термичка обрада{0}} високог вакуума уклања апсорбовани водоник из унутрашњих металних решетки.

· Електрополирање смањује микро-порозност и површину упијајуће површине.

 

3. Стабилизација напона цикличког оптерећења:

· Двостепено{0}}термичко жарење елиминише заостала напрезања приликом обраде.

· Компензација путање алата спречава структурно скретање под атмосферским притиском.

Plasma Etching Chamber Semiconductor Equipment

 

Поређење перформанси: моноблок 5-осно глодање у односу на заварене склопове

Квантитативна процена интегритета вакуума, прецизности и дугорочних{0}}трошкова рада.

 

Евалуатион Метриц

Моноблок 5-осни ЦНЦ глодање

Монтажа завареног лима

Структурни и процесни утицај

Ризик од цурења вакуума

Нула унутрашњих заварених шавова; геометрија чврсте гредице

Висок ризик на завареним линијама{0}}зона погођених топлотом (ХАЗ).

Спречава пуцање од замора током континуираних циклуса вакуума

Флатнесс Флатнесс

Равност Мања или једнака 0,02 мм/м; рупе које се држе до ±0,005 мм

Термичка деформација искривљује равност преко 0,10 мм

Осигурава прецизно поравнање руке робота за трансфер плочице

Стопа испуштања гасова

Мала површина; електрополирани Ра Мањи или једнак 0,2 µм

Високо испуштање гасова од грубих заварених шавова и инклузија флукса

Убрзава коморну пумпу{0}}до крајњих нивоа вакуума

Интерни канали

Монолитни канали за течност и сложени портови

Спољашњи заварени водови течности и заварени разводници

Спречава унутрашње путеве цурења расхладне течности унутар граница вакуума

Време израде прототипа

Директно ЦАД-у-ЦНЦ глодање без тврдог алата

Захтева прибор за заваривање, алате за пресовање и алате за поравнање

Смањује временске рокове инжињерске итерације за нове алате

За апликације које захтевају оптимизовано управљање топлотом или заштиту од корозије, наше пост{0}}могућности обраде обухватају сертификованеелоксирање тврдог премаза и електрополирањеопције које одговарају стандардима произвођача алата.

Ion Implantation Vacuum Chamber

 

Табела техничких спецификација

Ригорозне толеранције, завршна обрада површине и стандарди инспекције за вакуумске коморе.

 

Категорија параметра

Стандард високог вакуума (ХВ).

Ултра{0}}стандард високог вакуума (УХВ).

Опције материјала

СС304, Ал6061-Т6, Ал7075-Т6

СС316Л (нискоугљенични), титанијум 2

Максимална величина коверте

1800 мм × 1500 мм × 800 мм

1200 мм сферни / цилиндрични омотач

Флатнесс Флатнесс

Мање или једнако 0,02 мм / м

Мање или једнако 0,01 мм / м

Толеранције обраде

±0,010 мм

±0,005 мм

Завршна обрада (унутрашња)

Ра 0,8 µм (као-брушено / пескарено)

Ра 0,2 µм (електрополирано)

Стопа цурења хелијума

Мање или једнако 1×10^-10 Па·м³/с

Мање или једнако 1×10^-12 Па·м³/с

Основни радни притисак

До 10^-7 Па

До 10^-9 Па

Машинска опрема

5-Осно симултано глодање, окретно глодање

5-осно глодање портала, убодно брушење

Документација о квалитету

Извештај о инспекцији ЦММ, сертификат материјала (ЕН 10204 3.1)

Дневници детектора цурења хелијума, подаци о испуштању гаса

Spherical UHV Chamber with CF Flanges

 

Осигурање квалитета и стандарди инспекције

Протоколи верификације који обезбеђују директну интеграцију у линије полупроводничких фабрика.

 

Наше производне операције воде према ИСО 9001:2015 сертификованом систему управљања квалитетом. Протоколи инспекције покривају сваку фазу производње коморе:

 

· Инспекција материјала:Улазне партије материјала пролазе хемијску верификацију путем оптичке емисионе спектроскопије (ОЕС). Ултразвучне провере потврђују нулту формацију унутрашњих шупљина у дебелим екструзијама.

 

· Инспекција првог артикла (ФАИ):ФАИ извештаји о димензијама се генеришу коришћењем Зеисс ЦММ опреме пре пуштања у продају пуне серије.

 

· У-Провере прецизности процеса:Критичне димензије заптивања, геометрија жлеба О-прстена и профили ивица ЦонФлат (ЦФ) ножа- се проверавају током операција глодања.

 

· 100% испитивање цурења хелијума:Свака комора високог вакуума у ​​облику кутије се подвргава верификацији цурења помоћу детектора цурења Пфеиффер хелијума масеног спектрометра који раде у вакуумском режиму.

 

· Паковање чисте собе:Делови се подвргавају ултразвучном чишћењу дејонизованом водом, вакуумском дегазовању, двоструком полиетиленском паковањем у чистој просторији и заштитним сандуком.

Aluminum Semiconductor Vacuum Chamber Manufacturer

 

Матрица за избор материјала и геометрије

Усклађивање својстава материјала и структурних облика за процесне гасне средине и вакуумске опсеге.

 

· Нерђајући челик 304 / 316Л:Selected for operating bakeout temperatures >200 степени, реактивна процесна хемија и крајњи захтеви за вакуумом испод 10^-7 Па. СС316Л је специфициран за процесе јеткања хлором и флуорном плазмом.

 

· Алуминијум 6061-Т6:Примењује се тамо где су потребни топлотна дисипација, смањена тежина за роботске руковаоце плочицама и брзи циклуси{0}}испумпавања. Површинска пасивизација алуминијум оксида обезбеђује ефикасну баријеру за избацивање гасова.

 

· Кутија / правоугаона кућишта:Пружа максималну запремину унутрашњег уметања подлоге. Препоручује се за конструкције вакуумских комора и аутоматизованих модула за пренос.

 

· Сферна / цилиндрична кућишта:Равномерно распоређује структурна напрезања притиска под пуним атмосферским диференцијалним оптерећењима. Идеалан за сферичне ухв коморе са цф прирубницама које раде у научним и површинским анализама.

 

Циљане индустрије апликација

Омогућава глобалне произвођаче оригиналне опреме за полупроводнике, произвођаче опреме за премазивање и научно-истраживачке лабораторије.

Semiconductor Wafer Processing

Обрада полупроводничких плочица

Производња полупроводничке опреме плазма коморе за јеткање, ЦВД кућишта и модула јонског снопа.

PVD Thin-Film Deposition

ПВД наношење{0}} танких филмова

Монолитна коморна тела са интегрисаним циљним прирубницама и унутрашњим хлађењем за системе за распршивање.

UHV Research Laboratories

УХВ истраживачке лабораторије

Прилагођене УХВ коморе направљене за синхротронске изворе светлости, физику површине и системе за убрзање честица.

Tool Maintenance & Refurbishment

Одржавање и поправка алата

Поновна{0}}машинска обрада и прецизна{1}}заменапрецизне ЦНЦ компоненте вакуумске комореза старе фаб линије вафла.

Добијте понуду за полупроводничку вакуумску комору

ФАКс

 

 

Box Shaped High Vacuum Chamber

01. Како разликујете право цурење из вакуума и испуштање материјала током тестирања?

Разликовање виртуелних цурења од стварних захтева испитивање пораста притиска и анализу резидуалног гаса (РГА). Испуштање гаса (углавном водене паре) узрокује да се криве{1}}испумпају надоле при средњим притисцима, али пораст притиска се с временом смањује када је изолован. Право атмосферско цурење показује континуирани, линеарни пораст притиска. Решавамо испуштање гаса коришћењем вакуумског жарења и електрополирања и потврђујемо прави нулти статус-пропуштања путем масене спектрометрије хелијума.

02.Зашто изабрати алуминијум 6061-Т6 уместо нерђајућег челика за полупроводничке вакуумске коморе?

Као што је истакнуто у инжењерским дискусијама, алуминијум нуди 3 пута мању густину, супериорну топлотну проводљивост и бржи опоравак од печења од нерђајућег челика. Алуминијум природно формира површинску баријеру од алуминијум оксида која показује изузетно ниску пермеацију водоника, смањујући испуштање гасова у режимима високог вакума, истовремено смањујући тежину алата и трошкове обраде.

03.Како спречавате оштећења и неравнине на ивичним прирубницама ЦонФлат (ЦФ) ножа- током 5-осне обраде?

Заптивне усне ЦФ ножа-захтевају тачно оштре профиле од 90 степени без трагова клепетања да би се чисто угризли у бакарне заптиваче без кисеоника-. Користимо наменске алате за сечење профила по мери, ултра{4}}фине додатке за завршну обраду и пролазе за глодање у огледалу. Свака ивица ножа се подвргава 100% оптичкој инспекцији увећања да би се проверило одсуство микро-ивица или превртања ивица.

04.Зашто вакуумска комора може проћи статичку ЦММ инспекцију, али не успети у тестирању цурења хелијума?

Машине за мерење статичких координата (ЦММ) мере макро-геометрију, али не могу да детектују микро-порозност, континуитет увлачења-ознака преко заптивних површина или суб-микронско брбљање површине. Атоми хелијума продиру у микро-жлебове који пролазе поред ЦММ сонди за додир. Комбинујемо глодање огледала са тестирањем масеног спектрометра од 100% хелијума под потпуном вакуумском евакуацијом.

05. Шта спречава да се прирубнице коморе за закључавање терета искриве током честих промена притиска?

Померање притиска од вентилације-у-вакуму изазива циклични механички замор и откључава заостала напрезања преостала од агресивног тешког глодања. Овај ризик елиминишемо применом више-фазног жарења за ублажавање напона између грубог глодања, полу{4}}завршне обраде и завршних 5- прецизних завршних пролаза, обезбеђујући дугорочну геометријску стабилност под атмосферским диференцијалним оптерећењима.

06.Како храпавост унутрашње површине (Ра) утиче на базни притисак вакуума?

Грубље површине садрже микроскопске врхове и удубине које задржавају атмосферску влагу и процесне гасове, драматично повећавајући површину одвајања гасова. Електрополирање унутрашњих зидова коморе од Ра 0,8 µм до Ра 0,2 µм смањује ефективну микро-површину до 80%, убрзавајући време рада пумпе коморе{5}} како би се достигли крајњи УХВ притисци.

Затражите ДФМ процену за дизајн ваше полупроводничке коморе

Пошаљите своје 2Д инжењерске цртеже и 3Д ЦАД датотеке (СТЕП, ИГЕС, Кс_Т) на инжењерску процену.

Наш технички тим доставља детаљне повратне информације о дизајну за производност (ДФМ) и формалне комерцијалне понуде у року од 24 сата.

Директна техничка е-пошта: Erica@dazaocn.com

 

Контактирајте нас

 

Request a DFM Evaluation for Your Semiconductor Chamber Design

Popularne oznake: 5-осна ЦНЦ обрадна полупроводничка вакуумска комора, израда ултра високог вакуума, дизајн полупроводничке коморе за закључавање оптерећења, високовакумска комора у облику кутије, сферна ухв комора са цф прирубницама

Pošalji upit